虽然陈星是重生者，又带有国产之光系统，但这并不代表他是万能的，光刻胶他可没学过。

朱明月闻言，淡淡一笑解释道：“曝光波长193纳米，说明它支持193深紫外光，也就是DUV光刻机的曝光，技术节点及应用N40纳米-7纳米PTDLS，可用于40纳米到7纳米芯片的生产。”

“工艺能力CD：0.063um是分辨率，而工艺能力THK：0.16-0.24um则是涂抹厚度。”

陈星理解能力很强，在听了讲解以后，立马抓住重点道：“也就是说，这是一款足以支持7纳米芯片生产使用的光刻胶？”

“是的。”

朱明月点了点头，继续抛出这款光刻胶的底细道：“因为考虑到我们没有EUV光源，所以这款光刻胶曝光波长设计在193。”

“如果要用一句话概括，那就是这款光刻胶是我专门为多重曝光技术而设计的产品。”

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