第一百五十一章 48纳米光刻机发力龙兴x2来袭(第3/6 页)

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喜悦。

“成了!林工程师,陈总,我们生产的光掩膜版图案没有任何缺陷,不需要修补!”

话音刚落。

周围的工程师都在放声大笑。

“哈哈哈!成了!”

“历时二十多天,终于把这该死的光掩膜版生产出来了,下面就是多重曝光技术了吧,好期待,不知道会是什么样的。”

“这你们就不懂了吧,我是龙芯国际那边派过来的,多重曝光技术就是曝光两次,就好比阴阳太极图,别人可以一次性曝光,我们分阴阳面曝光。”

“原来如此,好期待!”

“这是学校没教过的知识,真想亲眼见证一波!”

听着周围的赞叹,林天眼皮都没抬一下,他早就知道光掩膜版的生产结果了。

如果连他亲自出马都无法生产合格的光掩膜版,那全世界也没有人可以做到了。

自信!可不是说说而已的!

“多重曝光技术我只教一次,你们自己可看好了。”

林天淡淡说道。

蓝绿厂的首席光刻工程师杨方才闻言,连忙回应道:“明白明白,我们一定好好学。”

因为马上要进入光刻机的洁净区域,手机基本是不可能带的,只能靠肉眼观测,能学到多少,全凭他们自己的天赋。

“总裁要一起去吗?”

林天侧目询问。

陈星也想见证一下,淡淡表示道:“反正我在这里也没什么事,进去看看也无妨。”

刚说完,他又压低声音叮嘱道:“尽量教仔细点,你不可能一直待在这里生产。”

“明白。”

林天点了点头道。

他很清楚,陈星一直在帮他弄小型粒子加速器,等设备抵达,他就要去搭建光刻工厂了,哪里还有时间教他们多重曝光技术。

……

光刻机洁净区域。

蓝绿厂的老总陈永得知光掩膜版生产完成那刻,便马不停蹄地赶来工厂,也想着见证开天基带芯片生产过程。

48纳米光刻机前,林天正在为光刻工程师们讲课。

“多重曝光技术,顾名思义就是利用多次曝光、刻蚀,得到我们最终想要的电路图案。”

“举个例子,我们要生产的开天基带芯片,它是28纳米制程,可我们的光刻机是48纳米制程,精度和分辨率远远不够怎么办呢?”

“最直接的办法是换台光刻机